本實(shí)驗(yàn)裝置以氫或者氘，為氚的模擬替代元素，研究氚在高溫氧化過(guò)程中揮發(fā)后氚的氧化，以及氧化后水的吸附效果。主要考察氚的氧化裝置以及氚的吸附裝置在不同實(shí)驗(yàn)條件下對(duì)氚的捕集效率。

方案說(shuō)明：

裝置內(nèi)管道為SS316L  BA級(jí) 英制1/8英寸不銹鋼管；

閥門(mén)接頭配件為世偉洛克1/8卡套接口方式；

進(jìn)口及國(guó)產(chǎn)質(zhì)量流量控制器控制信號(hào)DC0～5V、輸出信號(hào)DC0～5V，通過(guò)PLC模擬量輸入/輸出模塊完成采集和控制，控制器接口方式1/8雙卡套；

溫控模塊含RS485通訊，可實(shí)現(xiàn)與上位機(jī)軟件連接；

床體測(cè)溫?zé)崤夹盘?hào)，通過(guò)PLC熱電偶采集模塊監(jiān)測(cè)溫度；

壓力傳感器供電為DC24V，輸出信號(hào)DC4～20mA，通過(guò)PLC模擬量采集模塊監(jiān)測(cè)壓力；

氧化銅床、分子篩床為不銹鋼腔體及CF法蘭結(jié)構(gòu)，外部通過(guò)鎧裝加熱體加熱； 

溫度、壓力、流量可在上位機(jī)組態(tài)軟件實(shí)現(xiàn)監(jiān)測(cè)，完成數(shù)據(jù)記錄；

裝置整體為鋁合金型材框架及噴塑面板組成，管路及閥門(mén)部分為敞開(kāi)式結(jié)構(gòu)；